• 2023-08-02

HNEC FV12 真空乾燥装置

HNEC FV12真空乾燥機は、ガラス基板上に成膜されたカルコゲナイド薄膜の乾燥に使用されます。 HNEC FV12真空乾燥機は、HMIにより集中制御され、機械操作のためのプログラム可能で、研究機関における材料研究開発およびパイロット生産に適しています。製品の特長： | 超高速排気 | 溶剤蒸発速度が非常に均一 | ドライ真空ポンプ...

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• 2023-08-02

BATCH型高真空マグネトロンスパッタ装置

BATCHタイプの高真空マグネトロンスパッタリング装置は、ガラス、シリコン、金属、PETなどの様々な基板上に金属、半導体、絶縁体層を成膜するために使用されます。HMIによる集中制御とプログラムによる機械操作が可能で、研究機関での材料研究や開発、小規模なパイロット生産に適しています。HNEC RD200 は、最大 8 インチの円形基板まで対応可能です。 製品の特長：高清浄度、高真空環境、異なる電源タイプに対応など

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• 2023-08-02

カルサイト専用成膜装置

ガラス基板上にNiOx、ITOなどのナノ薄膜を成膜する装置です。

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• 2023-08-02

VCDデバイス

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