HNEC FV12真空乾燥機は、ガラス基板上に成膜されたカルコゲナイド薄膜の乾燥に使用されます。HMIによる集中制御とプログラム可能な機械操作により、研究機関における材料の研究開発や小規模のパイロット生産に適しています。HNEC FV12真空乾燥機は、300x400x3の正方形のガラス基板に使用できます。

製品の特徴：

超高速排気

均一な溶剤蒸発速度

オイルリターンを防ぐドライ真空ポンプユニット

バルブマニホールドによる調整可能な排気曲線

簡単操作の自動プログラム

拡張可能な分子ポンプまたはコールドポ ンプにより、製品アプリケーション の真空引きをサポート